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ug10.0陈列功能强大,沿面阵列当然不在话下,在此介绍一种简量易操作的方法:利用二次沿陈列实现沿曲面UV分布
7 m9 @! R: {/ t2 D效果如下4 }9 P6 O8 {6 j' `7 v
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2 \0 ~$ E, ? k. [先在面的一角取一点
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5 K' ^! X7 s2 L再过此点(一定是现有点,不可是捕捉点),生成一侧等参线
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再用点和曲线(矢量)、面(法向)生成一基准+ U, T4 k6 j* J6 G: Z# d2 q, o" M0 r
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再以此基准做一拉伸特征
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5 p4 s) p, L3 v* j! J4 U) x+ r4 D( K5 i# } P4 K1 S% D3 O
选中前面的点和拉伸特征,沿等参线“阵列几何特征”,方向选”垂直于路径“,注意:1.是“阵列几何特征”,不是“阵列特征”!; 2.一定要先中曲线,不能选边!
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1 @& K4 Q3 T0 y1 L2 M再选中陈列出来的特征连同做路径用的等参线,再沿另一边做沿陈列特征,注意这回是“阵列特征”,不是“阵列几何特征”啦,
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选中红框中的特征,
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7 G) o+ {- Y' |& g将跟随面选项打勾,并选面
: b: l/ h; H3 J ~/ @; e' m再将重引用选项如红框中设置
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; E2 p9 s" Q2 Y" }* k0 E, K0 E
3 W2 m: a% j7 ] _) G确认后结果,
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. Z! A8 e4 y# l( E陈列完成
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