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ug10.0陈列功能强大,沿面阵列当然不在话下,在此介绍一种简量易操作的方法:利用二次沿陈列实现沿曲面UV分布
7 a. k) ?! @8 y2 K! U效果如下$ e( @; {" U( |0 Z# {
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5 g; S/ T6 p. P( \9 e* a4 E2 Y% u先在面的一角取一点
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/ b1 K2 W) f T再过此点(一定是现有点,不可是捕捉点),生成一侧等参线
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/ I3 G- ^$ P& ]2 k3 w再用点和曲线(矢量)、面(法向)生成一基准
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5 {0 }# g7 i' D再以此基准做一拉伸特征" B. @( t7 m/ D
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选中前面的点和拉伸特征,沿等参线“阵列几何特征”,方向选”垂直于路径“,注意:1.是“阵列几何特征”,不是“阵列特征”!; 2.一定要先中曲线,不能选边!
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; I$ ~( K( r9 K- ?& u再选中陈列出来的特征连同做路径用的等参线,再沿另一边做沿陈列特征,注意这回是“阵列特征”,不是“阵列几何特征”啦,
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选中红框中的特征,- [% n3 j1 _2 q
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将跟随面选项打勾,并选面
& \$ s% f8 k; S* `再将重引用选项如红框中设置
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确认后结果,
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陈列完成" L5 H4 B5 d7 ?# c! |
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