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ug10.0陈列功能强大，沿面阵列当然不在话下，在此介绍一种简量易操作的方法：利用二次沿陈列实现沿曲面UV分布: g6 F1 i6 h2 B8 v: B5 z4 }! Z8 x( \
效果如下) E8 q9 j) e! M) w4 I) a) y- b5 O2 l
( P, w5 Y: O* u8 Z* L" o/ J" B4 r) m: g3 B$ h
) X0 b4 \4 `7 ^$ Q! a- W2 P4 F先在面的一角取一点
# }2 u' S( {% _5 K
' \3 q" C$ g8 B. w* L; j' e0 Y. C' e) g) \' O4 B
再过此点（一定是现有点，不可是捕捉点），生成一侧等参线
Q( d' P2 z) \7 H
& m2 _/ `+ U! V. R& s0 @, [; X
6 L& @$ \8 f# I! h
再用点和曲线（矢量）、面（法向）生成一基准( x& T4 U, y3 w7 I4 j
9 v8 [: W% y/ N& M, x+ q8 Y
3 n0 j# Z' D* ~6 u
再以此基准做一拉伸特征; I1 k) ]; q/ k. U" q
9 n. ]% N0 v2 \6 W2 u; L) k2 P6 [! v. X5 V1 W. @( ]1 T8 h1 X
选中前面的点和拉伸特征，沿等参线“阵列几何特征”，方向选”垂直于路径“，注意：1.是“阵列几何特征”，不是“阵列特征”！； 2.一定要先中曲线，不能选边！6 I; _6 v0 Q& e- y/ }
* t7 L. X, h" X, o1 \
2 h; b& v1 _0 L: Q2 Y# [
再选中陈列出来的特征连同做路径用的等参线，再沿另一边做沿陈列特征，注意这回是“阵列特征”，不是“阵列几何特征”啦，
! e# c% v/ H% l* e" V9 [1 S8 j' o; ?
6 m: k6 y r, h4 { [6 b+ C& Y
选中红框中的特征，- Z5 r2 ?( l1 A! B. Z# C
5 ^$ ?( u% @4 f& U- }
0 k/ _3 _' P* a$ F7 u+ j将跟随面选项打勾，并选面
2 R% v* h( ]7 C: F再将重引用选项如红框中设置, n0 V+ ]0 w6 f# G. \( r
$ q, K. d& Q8 w7 ^
5 t0 Y9 ~% j; A/ @0 W; S确认后结果，
) f1 t" W! h) Q6 B
; S6 v: M# ]) N! `9 C1 R0 ^
! C, A$ n& g, L! }1 x陈列完成
* o. p' y$ h k8 n3 y( t, U6 G ^) A0 `7 ?0 X5 y' N$ e
0 L* i# _4 D# @) s$ Y" l
6 |. L* \) h- w) E4 c |
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狗仔卡
发表于 2015-3-13 13:51
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