NX10实例教程——阵列（可重复引用--基于草图相切）

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NX10实例教程——阵列（可重复引用--基于草图相切）

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图形分析：通过上面两个图片可以看出来，键槽形状在阵列过程中，圆弧位置随着曲线的变化而发生改变，针对于这种阵列要使用到草图的相切约束才可以完成，而且相切关系的两个线体位于两个草图里，这样才可以完成阵列，这样的阵列在ug中成为可重复引用。

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下面我们针对绿色图片进行建模过程，黄色图片作为一个思考题布置给大家，草图里利用a完成，以基准坐标系草图点为基准位置，圆心直接捕捉圆心绘制半圆弧，三点式捕捉端点和任意点创建圆弧，自动添加相切约束。

Z捕捉端点按照实体轮廓绘制下图中线体，去掉圆角特征，手动切换圆弧，一次成型，注意不要添加自动添加任何约束。

手动添加直线和圆弧的相切约束，注意选择圆弧时，是整个圆弧线亮起来而不是圆心高亮。

F圆角把两个圆角一起倒出，下方圆角由于标注时要选择到相切位置进行标注，所以这个圆弧必须先倒出，上方圆角是处于方便，减少外部空间边倒圆操作，而

选择倒出

约束点到线上，创建中间对称，可以一次捕捉多个点，下图为选择直线端点

下图为选择圆弧端点

过滤器切换为仅在活动草图

再选择基准轴，选择点到线上约束，进行中间对正

镜像曲线，相切曲线，把半侧曲线以基准轴进行镜像

D标注，按照图形标注位置，在草图里进行相应标注，直到草图完全约束

Q完成草图，编辑草图参数，延迟评估，修改数据，确定

拉伸，过滤器为区域边界，直接放置于范围内，封闭区域成红色，点击，设置拉伸高度

由于是先绘制草图，再拉伸，所以草图和拉伸作为两个特征，可以利用导航器里，选择拉伸特征，右键，将草图隐藏到拉伸命令中

草图被隐藏到拉伸里，导航器里只有一个拉伸特征，这样绘图区没有草图

腔体，圆柱形，选择上表面，设置参数，注意添加底面半径

定位操作，点到线定位到y轴，垂直定位32距离

抽壳，删除底面

选择xy基准面，绘制直线和圆弧，该圆弧为相切关系的中的辅助线，必须由草图绘制出，注意距离标注都要减去4/2，这两个线体为相切辅助线

拉伸，选择xy基准面，在同一个基准面上，利用z绘制键槽形状，标注数据，并做上下圆弧与上一个草图中的直线和圆弧线相切，选择前一个草图中的直线和圆

弧时，要利用推断选择

Q完成草图，拉伸求差

阵列特征，选择拉伸特征，线性阵列，设置跨距和数量

阵列方法，设置为变化，可重复引用，在里面勾选第一个草图中的直线

勾选圆弧线，方向箭头可不必考虑

确定后，阵列效果

体积

思考题提示，操作原理相似

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